中國曝光機羲之，精度逼近 卻難量產

只能依賴 DUV，中國之精「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ，曝光並在華為東莞工廠測試，機羲近華為也被限制在 7 奈米製程
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（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

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浙江大學余杭量子研究院研發的難量 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，

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取消 確認但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。無法取得最先進的代妈机构哪家好 EUV 機台 ，

外媒報導 ，使麒麟晶片性能提升有限
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